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  詳細說明：
納米級拋光液： 主要由高純度的膠態氧化硅微粒所組成，可避免加工元件產生刮傷的現象，特別用于特別適用于鈮酸鋰、鉭酸鋰、藍寶石、石英、光學晶體、紅外晶體、金屬、陶瓷硅片、鍺、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、氮化鎵等拋光。 型號 平均粒徑 （NM） Sio2 含量(%) PH值 50 40.0 39-41 10-11 80 72.0 39-41 10-11 100 100 39-41 10-11 120 80-120 39-41 10-11 去除率：5-7um/小時 包裝規格：20KG/桶 、25KG/桶 儲存方式：存放溫度為15℃-30℃, 避免陽光照射； 保質期限：弱堿性拋光液保質期為一年。 。 納米級拋光液應用領域： 1. 金屬類材料，如不銹鋼,鋁件,鋅合金 2. LED，藍寶石襯底,表鏡片，晶體，寶石 3. 光學鏡片，光學玻璃，石英 4. 磁頭，硬盤 5. 光纖以及光伏陶瓷企業 6.半導體、硅片、鍺、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、氮化鎵等半導體材料 |
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詳細說明：
納米級拋光液：
主要由高純度的膠態氧化硅微粒所組成，可避免加工元件產生刮傷的現象，特別用于特別適用于鈮酸鋰、鉭酸鋰、藍寶石、石英、光學晶體、紅外晶體、金屬、陶瓷硅片、鍺、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、氮化鎵等拋光。
型號 | 平均粒徑 （NM） | Sio2 含量(%) | PH值 | |
50 | 40.0 | 39-41 | 10-11 | |
80 | 72.0 | 39-41 | 10-11 | |
100 | 100 | 39-41 | 10-11 | |
120 | 80-120 | 39-41 | 10-11 |
去除率：5-7um/小時
包裝規格：20KG/桶 、25KG/桶
儲存方式：存放溫度為15℃-30℃,
避免陽光照射；
保質期限：弱堿性拋光液保質期為一年。
。
納米級拋光液應用領域：
1. 金屬類材料，如不銹鋼,鋁件,鋅合金
2. LED，藍寶石襯底,表鏡片，晶體，寶石
3. 光學鏡片，光學玻璃，石英
4. 磁頭，硬盤
5. 光纖以及光伏陶瓷企業
6.半導體、硅片、鍺、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、氮化鎵等半導體材料
180-0586-8797
